ギ酸真空リフロー炉
ギ酸還元と真空リフローにより、完全自動・無汚染・無ボイド（Void < 1%）のはんだ付けを実現し、製品の信頼性を大幅に向上。

製品特長

• バッチ式密閉チャンバーで、低真空環境下でも確実に無ボイドはんだ付けを実現

• 生産ニーズに応じてチャンバーの数をカスタマイズ可能

• 赤外線（IR）ヒーターにより迅速かつ均一な加熱が可能

• 直接気化方式により、従来工法の80倍のスピードでギ酸を生成